SK Materials相关人士26日表示，“我们正在以今年底或明年初提供高纯度氟化氢样本为目标，开展相关研发工作。早在日本对韩实施半导体关键材料出口管制之前，公司已有意着手生产高纯度氟化氢。”据了解，氟化氢是半导体制造工艺中的关键材料，主要用于晶圆清洗工艺和晶圆蚀刻工艺。在可以使用较低纯度的氟化氢清洗工艺中，韩国企业主要使用本国产氟化氢，而在较细致的蚀刻工艺中，需使用技术先进的日本产高纯度氟化氢产品。
自日本政府宣布将限制对韩出口半导体关键材料后，韩国半导体巨头三星电子和SK海力士纷纷陷入生产危机。为寻找替代日本生产的高纯度氟化氢，三星电子和SK海力士近期正在对国产、中国产和中国台湾产的相关产品进行替代测试。
SK集团会长崔泰源18日曾表示，在半导体生产的不同工艺中，所需的氟化氢产品纯度各不相同。据了解，韩国半导体生产企业从日本进口的高纯度氟化氢纯度为99.9999999999%（12个9纯度）。半导体业界相关人士也表示，在考虑氟化氢纯度时，10个9和12个9纯度相差100倍，这在半导体制造工艺中有着巨大差异。韩国企业难以在短时间内赶超长期在此方面技术领先的日本企业。
SK海力士是继三星电子之后，全球DRAM市场的第二大生产企业，市场份额达到30%。不过由于存储芯片需求减少，近期业绩表现不佳。今年第二季度SK海力士的营业利润仅为6376亿韩元，同比骤减89%。销售额为6.4522万亿韩元，同比减少38%。与第一季度相比，其营业利润和销售额分别减少53%和5%。
面对日本出口管制和半导体需求减少、价格暴跌等不利因素，SK海力士日前正式宣布将于下半年起开始减少DRAM和NAND闪存产量，这是SK海力士11年来的首次减产。全球第三大半导体生产商美光公司早在今年4月就公布减产计划，表示将DRAM和NAND闪存的产量分别减少5%，而未来业界龙头企业三星电子是否也有减产计划备受关注。分析认为，几乎垄断市场的三大半导体生产企业如果全部减产，将有助于缓解目前DRAM价格暴跌的现象。同时，相关公司通过减产以节省原材料的做法，可以在短期内使其不受出口管制的不利影响。
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