日企在晶片、掩膜版等领域的市场份额占比非常高。其中，掩膜版是半导体、LCD、OLED等制造过程使用的“Pothomask”原材料，随着半导体工程的微细化，其重要性也愈发凸显。据透露，半导体制程核心材料掩膜版近期可能被列入禁止向韩国出口的名单之中。掩膜版一直由日本厂商主导，日本Hoya、CST、信越是该领域的领先企业。NH投资证券研究员道贤宇（音）表示，与日企相比，韩国掩膜版生产技术还存在很多不足。
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光刻胶同样是半导体工艺中核心的材料之一，日本已确定禁止向韩国出口产品中则包括光刻胶。日本在EUV专用光刻胶领域基本处于垄断地位，技术达到国际领先水平，而韩国EUV专用光刻胶技术目前还处于开发阶段。业界人士透露，若日本对韩出口限制问题未尽快解决，三星原计划明年1月正式开工的华城EUV专门生产线或出现差池。
三星电子曾于4月24日公布“半导体蓝图2030”计划，宣布将在半导体业务投资133万亿韩元。其中投入73万亿韩元进行研究开发、投入60万亿韩元购置先进生产设施并招聘1.5万名专业人才。据悉，三星已建立全球第一条7纳米EUV制程产线，今后将继续扩大EUV生产线产能。三星副会长李在镕近日亲赴日本，向Stella、JSR等日本半导体原料企业提议，希望能通过海外工厂提供货源，并会见日本财经界元老和企业人士协助斡旋。
此外，由于日本政府对韩出口管制措施恐将长期化，韩国中小企业危机感加剧。调查显示，韩国有59%半导体相关中小企业表示，如果日本持续出口管制，企业经营将难以撑过六个月。韩国业界担忧，若日方输韩产品限制继续升级，韩国包括半导体在内的多个行业发展或受到冲击，进而对全球供需结构造成一定影响。
